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SiC器件是如何改变半导體(tǐ)行业面貌的

作者:handler人气:781发表时间:2020-09-23 09:19

代碳化硅(SiC)半导體(tǐ)器件具有(yǒu)值得称道的性能(néng),使得越来越多(duō)的应用(yòng)领域切实获益。但是随着電(diàn)动車(chē)(EV)、可(kě)再生能(néng)源和5G等行业的创新(xīn)步伐越来越快,越来越多(duō)的工程师在寻找新(xīn)的解决方案,对功率开关技术的要求也越来越高,以求满足客户和行业需求。


碳化硅由碳和硅两种元素组成,它们在银河系中极為(wèi)丰富,含量分(fēn)别排在第四位和第八位。虽然如此,但碳化硅很(hěn)少在地球自然界中出现,仅在陨石和部分(fēn)岩石沉积物(wù)中有(yǒu)少许痕迹。不过,它可(kě)以用(yòng)人工方法相当轻松地合成,并已经作為(wèi)研磨料(金刚砂)使用(yòng)了一个多(duō)世纪。甚至在電(diàn)子器件中,它也在早期无線(xiàn)電(diàn)中作為(wèi)检波器使用(yòng),而且第一个LED效应是于1907年利用(yòng)SiC晶體(tǐ)产生的。


在電(diàn)力電(diàn)子學(xué)中,我们知道SiC是一种宽带隙(WBG)半导體(tǐ),它拥有(yǒu)革命性的功率转换性能(néng),能(néng)在高频下生成以前无法获得的效率数据,并具有(yǒu)相关无源元件较小(xiǎo)带来的其他(tā)附带优点,尤其是磁性元件。这些都会带来成本、重量和體(tǐ)积节省。



SiC FET共源共栅引领宽带隙封装

现在,已经出现了第三代SiC FET,这是一种Si-MOSFET和SiC JFET的共源共栅布置,处于宽带隙技术的前沿。在归一化开态電(diàn)阻乘以晶粒面积,即RDS(ON)*A,以及归一化开态電(diàn)阻乘以关闭能(néng)耗,即RDS(ON)*EOSS方面,它们具有(yǒu)最好的性能(néng)表征,这二者是降低通导损耗和开关损耗的关键指标。


按绝对值计算,对于650V器件,SiC FET实现了不到7mΩ的开态電(diàn)阻,对于1200V额定值,则不到10mΩ,同时价格与Si相差无几。鉴于UnitedSiC在SOT-227形式中证明的2mΩ,1200V性能(néng),模块封装中的并联零件会表现得更好(图1)。

【图1 在额定值為(wèi)1200V,2mΩ的SOT-227封装中的六个SiC FET。】

SiC FET的一个主要应用(yòng)是,在易驱动且兼容的栅极驱动和受欢迎的TO-247封装的帮助下,作為(wèi)Si-MOSFET和IGBT的插入式替代品。现有(yǒu)应用(yòng),尤其是使用(yòng)IGBT的应用(yòng),开关频率可(kě)能(néng)会低,但是新(xīn)设计可(kě)以在新(xīn)的可(kě)用(yòng)DFN8x8封装中利用(yòng)SiC FET的高频和高边际变化率能(néng)力。这会让電(diàn)感显著降低,使其成為(wèi)LLC和相移全桥转换器等软硬开关应用(yòng)的理(lǐ)想选择。通过SiC FET沟道进行的固有(yǒu)反向传导可(kě)充当低损耗、快速恢复體(tǐ)二极管,也对这方面有(yǒu)益。

现在可(kě)以在哪里找到SiC FET

作為(wèi)IGBT和Si-MOSFET的直接替代品,SiC FET用(yòng)于升级電(diàn)动机驱动、UPS逆变器、焊机、大功率交直流和直流转换器等等。在電(diàn)动机驱动应用(yòng)中,可(kě)以在不改变开关频率的情况下不断提高效率,同时沟道中的静态和动态损耗会降低,栅极驱动電(diàn)流也会减小(xiǎo),这会使得IGBT耗散大量功率,而Si-MOSFET耗散的功率更多(duō)。


通常会对栅极驱动元件进行调整,实施简单更改,以降低SiC FET的开关速度。还可(kě)以考虑其他(tā)益处,如降低缓冲電(diàn)路的體(tǐ)积,甚至去掉整流二极管,该二极管在IGBT驱动中是必需的,但是可(kě)以被SiC FET體(tǐ)二极管效应有(yǒu)效替代。在電(diàn)动車(chē)電(diàn)动机驱动逆变器应用(yòng)中,会有(yǒu)一些效率增益,如果频率提高,相比IGBT解决方案,電(diàn)动車(chē)電(diàn)动机可(kě)以更高效平稳地运行。在工业和汽車(chē)驱动中,效率提高可(kě)以解决对更小(xiǎo)的體(tǐ)积和更長(cháng)的单次充電(diàn)行驶里程的迫切需求。


車(chē)载和静态電(diàn)动車(chē)電(diàn)池充電(diàn)器也都使用(yòng)SiC FET获得优势。在这种情况下,低损耗、高频率运行可(kě)以允许输出滤波器中使用(yòng)小(xiǎo)得多(duō)的磁性元件,从而降低重量、體(tǐ)积和成本,进一步提高車(chē)载充電(diàn)机实现的電(diàn)动車(chē)单次充電(diàn)行驶里程。使用(yòng)SiC FET、在100kW+電(diàn)平下运行、直流输出電(diàn)压為(wèi)400V或800V的路边快速充電(diàn)器也因此受益,效率节省超过IGBT。按需并联的独立SiC FET器件通常很(hěn)实用(yòng)且成本较低,是昂贵的IGBT模块的替代品。整體(tǐ)看来,可(kě)以节省成本和散发到环境中的能(néng)量。


在包括大功率交直流和直流转换器在内的所有(yǒu)功率转换领域中,有(yǒu)越来越多(duō)的新(xīn)设计使用(yòng)SiC FET。在从头开始设计时,可(kě)以发挥出器件的全部潜力;后接谐振转换级的图腾柱功率因数校正能(néng)实现非常高的效率,无论是LLC还是带同步整流的相移全桥,它们都使用(yòng)SiC FET在高频下开关。之后,在冷却硬件、滤波和能(néng)量存储磁性元件、電(diàn)容器、缓冲電(diàn)路、外壳等方面都会发生后续节省,这些都能(néng)降低总系统成本并降低碳排放。

SiC FET的未来

SiC FET的性能(néng)惊人,但是设计师总是想要更多(duō),节省能(néng)量和成本并同时提高功能(néng)的压力让这种性能(néng)需求更加迫切。迅速扩张的市场有(yǒu)5G基础设施、電(diàn)动車(chē)/混合动力車(chē)、可(kě)再生能(néng)源发電(diàn)和数据中心,而且在所有(yǒu)情况下,下一代SiC FET技术都能(néng)在实现更好的性能(néng)方面发挥作用(yòng)。

【图2. 引人注目的SiC FET特性及其比例变化、进化方向。蓝色表示现在,橙色表示未来可(kě)能(néng)情形。】

有(yǒu)许多(duō)器件参数已经有(yǒu)了发展路線(xiàn),部分(fēn)参数需要权衡。图2显示了部分(fēn)参数的发展方向以及在未来情景中的可(kě)能(néng)比例增益。理(lǐ)论上,所有(yǒu)这些增益均可(kě)实现,且预计能(néng)够随着继续发展而出现。参数改进并不一定与损耗降低有(yǒu)关,但是一定很(hěn)重要。由于短路耐受额定值更好、击穿電(diàn)压更高、封装热阻更低,从而更易冷却并具有(yǒu)更高的可(kě)靠性,坚固性也必定会有(yǒu)所提高。众所周知,封装和SiC FET元件设计方面有(yǒu)改进的空间,这预计将降低RDS(ON)和晶粒面积。幸运地是,这还可(kě)以降低晶粒電(diàn)容,进而降低动态损耗。


以SiC制成的JFET的应用(yòng)也在增加;作為(wèi)固态断路器和限流器,它们具有(yǒu)独特的优势,其常开特征实际上就是一项优势。SiC技术对高峰值结温有(yǒu)极高的耐受能(néng)力,并实现低通导電(diàn)阻以及明确界定的饱和電(diàn)流与快速开关。作為(wèi)断路器,SiC JFET的开关速度比传统机械类型器件快数千倍,且插入损耗低。

利用(yòng)SiC JFET,甚至電(diàn)路的線(xiàn)性运行也会有(yǒu)所改善,如電(diàn)子负载;与Si-MOSFET相比,SiC零件不会让元件结构内出现電(diàn)流拥塞,因為(wèi)单个元件栅极阈值電(diàn)压对温度不敏感。另一方面,Si-MOSFET有(yǒu)非常大的VGTH负温度系数,这会导致局部热点和热逃逸

封装也将发展

SiC FET已经走进了更大功率、更高开关频率的新(xīn)应用(yòng)中,这距离最开始的起点只有(yǒu)几年时间。与硅器件发展的漫長(cháng)时间相比,SiC才刚刚迈上征途,不过已经可(kě)以看到令人激动的性能(néng)里程碑了。

随着SiC FET可(kě)能(néng)应用(yòng)领域的不断拓宽,封装选项也将变得更多(duō)。三针脚和四针脚形式的TO-247封装目前提供了当前许多(duō)IGBT和Si-MOSFET的插入式替代品,不过也可(kě)以使用(yòng)TO220-3L器件。在表面安装款式中,D2PAK-3L和D2PAK-7L很(hěn)受欢迎,而UnitedSiC生产的低型面DFN8x8因其低封装電(diàn)感而适合非常高的运行频率。未来将提供更多(duō)SMD选项,而银烧结将越来越多(duō)地用(yòng)于晶粒粘结,以提高热性能(néng)。使用(yòng)SiC FET晶粒的模块将变得更為(wèi)普及,并将有(yǒu)额定值為(wèi)6000V或更高且使用(yòng)堆叠式“超共源共栅”布置的版本。它们将应用(yòng)于MV-XFC快速充電(diàn)器、牵引、可(kě)再生能(néng)源发電(diàn)、固态变压器和高压直流输電(diàn)(HVDC)。

未来世代

SiC FET已经走进了更大功率、更高开关频率的新(xīn)应用(yòng)中,这距离最开始的起点只有(yǒu)几年时间。与硅器件发展的漫長(cháng)时间相比,SiC才刚刚迈上征途,不过已经可(kě)以看到令人激动的性能(néng)里程碑。


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